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发明名称
光罩及使用该光罩之曝光方法
摘要
本发明为一种光罩1,系由一透明基材2与形成于该透明基材2之一面上之一遮光膜3所构成;其特征为设有:多个光罩图案(mask pattern)4,在上述遮光膜3上排列形成于一个方向,以使曝光光线通过;以及,一观察窗5,在上述遮光膜3上,形成于上述多个光罩图案4之排列方向之一侧,俾可以观察被设置于对面之一彩色滤光片基板之表面。藉此,将会提升曝光图案与涂敷有感光性树脂的基板之基准图案间之重合精确度。
申请公布号
TW200728905
申请公布日期
2007.08.01
申请号
TW095136984
申请日期
2006.10.05
申请人
V科技股份有限公司
发明人
山康一;渡边由雄
分类号
G03F1/14(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01)
主分类号
G03F1/14(2006.01)
代理机构
代理人
林秋琴;何爱文
主权项
地址
日本
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