发明名称 聚碳矽烷及其制造方法,涂布用二氧化矽系组成物,及二氧化矽系膜
摘要 本发明的聚碳矽烷系具有矽原子与碳原子交互连续构成的主链,且含有下述一般式(1)所示构造单位、下述一般式(2)所示构造单位、下述一般式(3)所示构造单位及下述一般式(4)所示构造单位。
申请公布号 TW200728357 申请公布日期 2007.08.01
申请号 TW095140934 申请日期 2006.11.06
申请人 JSR股份有限公司 发明人 中川恭志;秋山将宏;古川刚;德重直久
分类号 C08G77/60(2006.01);C09D183/16(2006.01) 主分类号 C08G77/60(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 日本
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