化合物及其制造方法,正型光阻组成物及光阻图型之形成方法

摘要

本发明之化合物为通式(A-1)所示之化合物[R’为氢原子或酸解离性溶解抑制基，且至少1个为酸解离性溶解抑制基；R11至R17为碳数1至10之烷基，或芳香族烃基，其结构中可含有杂原子；g、j为1以上之整数，k、q为0以上之整数，且g+j+k+q为5以下；a为1至3之整数；b为1以上之整数，l、m为0以上之整数，且b+l+m为4以下；c为1以上之整数，n、o为0以上之整数，且c+n+o为4以下；A为下述通式(Ia)所示之基、下述通式(Ib)所示之基或脂肪族环式基]。