发明名称 铪系化合物、铪系薄膜形成材料以及铪系薄膜形成方法
摘要 本发明系提供,常温为液体,然而富于安定性,可进行原料的安定供给,可安定地形成高品质的铪系薄膜之技术。一种铪系薄膜形成材料,其系以下述通式[I]所示化合物:通式[I]:LHf(NR1R2)3其中,L为环戊二烯基或取代环戊二烯基,R1、R2为烷基,R1与R2可互相不同亦可相同。
申请公布号 TW200728311 申请公布日期 2007.08.01
申请号 TW095144383 申请日期 2006.11.30
申请人 多利化学研究所股份有限公司 发明人 平木忠明;三桥智;太附圣;椿谷晓人
分类号 C07F7/00(2006.01);C23C16/40(2006.01);H01L21/316(2006.01) 主分类号 C07F7/00(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本