发明名称 显示装置及其制造方法
摘要 本发明揭示一种显示装置,包括:一对彼此面对之基板,设置于此等基板之间之像素区,以及设置于此等基板之一之延伸上之外部布线。此外部布线设置于形成于此延伸上之凹处中。以此结构可以可靠地保护设置于此延伸上之外部布线,因而改善显示装置之可靠度。
申请公布号 TWI284751 申请公布日期 2007.08.01
申请号 TW092114776 申请日期 2003.05.30
申请人 新力股份有限公司 发明人 林久雄;鸟山重隆
分类号 G02F1/13(2006.01);G02F1/1343(2006.01) 主分类号 G02F1/13(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种显示装置,包括: 一对彼此面对的基板、设置于该等基板之间之像 素区、设置于该等基板之一延伸上之外部布线; 该外部布线是设置于在该延伸上所形成之凹处中 。 2.如申请专利范围第1项之显示装置,其中 该凹处之深度是大于或等于该外部布线之高度。 3.如申请专利范围第1项之显示装置,更包括 形成于该凹处周围中该延伸上之多层薄膜; 该凹处之深度从该多层薄膜延伸至具有该延伸之 该基板。 4.如申请专利范围第1项之显示装置,更包括 设置于该延伸上之电路元件,以及连接至该延伸之 外部布线构件; 该凹处是形成介于该电路元件与该外部布线构件 之连接部份之间。 5.一种显示装置之制造方法,此装置具有: 一对彼此面对之基板、形成介于该等基板之间之 像素区、以及形成于该等基板之一延伸上之外部 布线用以将信号输入该像素区,该制造方法包括以 下步骤; 在该延伸上形成凹处;以及 在该凹处中设置该外部布线。 6.如申请专利范围第5项之制造方法,更包括 在该像素区的形成中形成通孔之步骤; 该形成该凹处之步骤系该相同于该形成该通孔之 步骤。 7.如申请专利范围第5项之制造方法,其中 该凹处之深度是大于或等于该外部布线之高度。 8.如申请专利范围第5项之制造方法,其中 该显示装置更具有形成于该凹处周围中该延伸上 之多层薄膜; 该凹处之深度从该多层薄膜延伸至具有该延伸之 该基板。 图式简单说明: 图1A为根据本发明较佳实施例之显示装置之概要 平面图; 图1B为在图1A中所示显示装置主要部份是放大截面 图; 图2A至2G为戴面图用于说明于图1A中所示显示装置 之制造方法; 图3A至3I为放大截面图,用于说明根据较佳实施例 形成导引线之方法; 图4为习知技术液晶显示器之平面图;以及 图5为放大截面图、显示在习知技术中导引线配置 之例。
地址 日本