| 发明名称 | 光学薄膜和抗反射薄膜的生产方法，光学薄膜、抗反射薄膜、偏振片以及包含它们的图像显示装置 | ||
| 摘要 | 一种包含在透明基底上的至少两层电离辐射－固化层的光学薄膜的生产方法，该方法包括：通过一定波长的电离辐射对层A进行照射的步骤1，所述层A包括在一定灵敏度的波长范围内的较长的波长侧具有不同吸收端的两种或更多种聚合引发剂，所述聚合引发剂对于所述波长范围是敏感的，对于所述电离辐射的波长，至少一种聚合引发剂(a)基本上不敏感，至少一种聚合引发剂(b)是敏感的；和在步骤A之后，将层B用的涂布液涂布在层A上然后通过具有一定波长的电离辐射对层B用的涂布液进行照射的步骤2，所述层B包含至少一种聚合引发剂(c)，对于步骤2中的电离辐射的波长，聚合引发剂(a)和(c)是敏感的。 | ||
| 申请公布号 | CN101010603A | 申请公布日期 | 2007.08.01 |
| 申请号 | CN200580029833.X | 申请日期 | 2005.08.30 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 大谷薰明;福重裕一 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01);G02B5/30(2006.01);B05D7/24(2006.01) | 主分类号 | G02B1/11(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 于辉 |
| 主权项 | 1.一种包含在透明基底上的至少两层电离辐射-固化层的光学薄膜的生产方法，该方法包括：通过一定波长的电离辐射对层A进行照射的步骤1，所述层A包括在一定灵敏度的波长范围内的较长的波长侧具有不同吸收端的两种或更多种聚合引发剂，所述聚合引发剂对于所述波长范围是敏感的，对于所述电离辐射的波长，至少一种聚合引发剂(a)基本上不敏感，至少一种聚合引发剂(b)是敏感的；和在步骤A之后，将层B用的涂布液涂布在所述层A上然后通过具有一定波长的电离辐射对层B用的涂布液进行照射的步骤2，所述层B包含至少一种聚合引发剂(c)，对于步骤2中的电离辐射的波长，聚合引发剂(a)和(c)是敏感的。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||