发明名称 氮化物半导体发光元件
摘要 本发明提供氮化物半导体发光元件。InAlGaN层(19)设置在量子阱发光层(13)与n型氮化镓类半导体层(15)之间。量子阱发光层(13)的氧浓度低于InAlGaN层(19)的氧浓度。量子阱发光层(13)设置在p型AlGaN半导体层(17)与InAlGaN层(19)之间。InAlGaN层(19)的铟组分大于InAlGaN势阱层(13a)的铟组分。InAlGaN层(19)的铟组分大于InAlGaN势垒层(13b)的铟组分。InAlGaN势阱层(13a)的铝组分小于InAlGaN层(19)的铝组分。InAlGaN势垒层(13b)的铝组分小于InAlGaN层(19)的铝组分。
申请公布号 CN101009352A 申请公布日期 2007.08.01
申请号 CN200710008167.2 申请日期 2007.01.26
申请人 住友电气工业株式会社;独立行政法人理化学研究所 发明人 京野孝史;平山秀树
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 樊卫民;郭国清
主权项 1.一种氮化物半导体发光元件,其特征在于,设有:n型氮化镓类半导体层;包含InX1AlY1Ga1-X1-Y1N势阱层(1>X1>0,1>Y1>0)和InX2AlY2Ga1-X2-Y2N势垒层(1>X2>0,1>Y2>0)的量子阱发光层;设置在所述量子阱发光层与所述n型氮化镓类半导体层之间的InX3AlY3Ga1-X3-Y3N层(1>X3>0,1>Y3>0);以及具有比所述InX2AlY2Ga1-X2-Y2N势垒层的材料的禁制带宽大的禁制带宽的p型AlGaN半导体层,其中,所述量子阱发光层设置在所述p型AlGaN半导体层与所述InX3AlY3Ga1-X3-Y3N层之间,所述InX3AlY3Ga1-X3-Y3N层的铟组分X3大于所述InX1AlY1Ga1-X1-Y1N势阱层的铟组分X1,所述InX3AlY3Ga1-X3-Y3N层的铟组分X3大于所述InX2AlY2Ga1-X2-Y2N势垒层的铟组分X2,所述InX1AlY1Ga1-X1-Y1N势阱层的铝组分Y1小于所述InX3AlY3Ga1-X3-Y3N层的铝组分Y3,所述InX2AlY2Ga1-X2-Y2N势垒层的铝组分Y2小于所述InX3AlY3Ga1-X3-Y3N层的铝组分Y3,所述量子阱发光层的氧浓度低于所述InX3AlY3Ga1-X3-Y3N层的氧浓度。
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