发明名称 | 基板处理装置以及基板旋转装置 | ||
摘要 | 本发明提供一种为了大幅降低颗粒的产生量而进行改良后的基板旋转装置、以及具备该基板旋转装置的基板处理装置。基板旋转装置包括:直接或者间接地连接在基板支承体上的从动旋转体、例如从动环;和在与可动部件接触的状态下,进行旋转从而旋转驱动上述从动旋转体的驱动旋转体、例如,驱动转子。从动旋转体和驱动旋转体,由JIS R1607标准规定的破坏韧性的值以及/或者JIS R1601标准规定的三点弯曲强度的值不同的陶瓷材料构成。 | ||
申请公布号 | CN101010792A | 申请公布日期 | 2007.08.01 |
申请号 | CN200580028801.8 | 申请日期 | 2005.10.27 |
申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 田中澄;铃木公贵 |
分类号 | H01L21/683(2006.01) | 主分类号 | H01L21/683(2006.01) |
代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
主权项 | 1.一种基板处理装置,其特征在于,包括:间隔用于处理被处理基板的处理空间的处理容器;在所述处理容器内支承所述被处理基板的基板支承体;直接或者间接地连接在所述基板支承体上的从动旋转体;和通过与所述从动旋转体接触并且旋转,使所述从动旋转体旋转,由此使所述基板支承体旋转的驱动旋转体,其中,所述从动旋转体和所述驱动旋转体,由JIS R1607标准规定的破坏韧性的值以及/或者JIS R1601标准规定的三点弯曲强度的值不同的陶瓷材料所构成。 | ||
地址 | 日本东京都 |