发明名称 用于X射线光谱分析含碳化硅材料的制样方法
摘要 一种用于X射线光谱分析含碳化硅材料的制样方法,其包含以下步骤:配制混合氧化剂;制备熔剂挂壁打底的铂金坩埚;将配制混匀后的含碳化硅耐火材料样品与混合氧化剂倒入已由熔剂挂壁打底的铂金坩埚内;将铂金坩埚放入高温熔融炉中,在低温下加热氧化,制成用于X射线荧光光谱分析的玻璃珠。本发明方法,制成的用于X射线荧光光谱分析的玻璃珠,元素分布均匀,无颗粒效应和矿物效应,可长期保存;同时在制样过程中,可将含碳化硅耐火材料样品中的碳化硅分解氧化成不会腐蚀铂金坩埚的物质,操作方法简单,安全,制备时间短,样片可长期保存。
申请公布号 CN101008593A 申请公布日期 2007.08.01
申请号 CN200610023709.9 申请日期 2006.01.27
申请人 宝山钢铁股份有限公司 发明人 陆晓明;金德龙;徐元财;王伟敏;缪虹
分类号 G01N1/28(2006.01);G01N23/223(2006.01) 主分类号 G01N1/28(2006.01)
代理机构 上海科琪专利代理有限责任公司 代理人 郑明辉
主权项 1.一种用于X射线光谱分析含碳化硅材料的制样方法,特征在于,其包含以下步骤:步骤1、配制混合氧化剂;步骤2、在铂金坩埚内加入熔剂,并将所述的铂金坩埚放入高温熔融炉中熔融,制成熔剂挂壁打底的铂金坩埚;步骤3、将含碳化硅耐火材料样品与混合氧化剂配制混匀后,倒入已由熔剂挂壁打底的铂金坩埚内;步骤4、将装有含碳化硅耐火材料样品与混合氧化剂的铂金坩埚放入高温熔融炉中,在低温下加热氧化,制成用于X射线荧光光谱分析的玻璃珠。
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