平版印版的生产方法

摘要

成像的平版印版的后处理方法包括(a)使在平版印刷基材上具有图像区域和非图像区域的平版印刷与包括在此定义的以下通式(I)的至少一种膦酰基取代的硅氧烷的溶液接触和(b)干燥。

主权项

1.一种平版印版的生产方法，包括：(a)成像式辐射平版印版前体，该前体具有施加到平版印刷基材的辐射敏感层；(b)通过碱性显影剂从成像式辐射的前体去除非图像区域；(c)采用包括通式(I)的至少一种膦酰基取代的硅氧烷的溶液处理步骤(b)中获得的平版印版其中R¹选自氢原子、羟基、线性或支化C₁-C₂₀烷基、线性或支化C₂-C₂₀链烯基、线性或支化C₁-C₂₀烷氧基、线性或支化C₂-C₂₀炔基、芳基、芳基烷基、烷基芳基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔基、炔基芳基、酰氧基和基团-CHR⁶-PO₃^2-，R²和R³独立地选自氢原子、线性或支化C₁-C₂₀烷基、线性或支化C₂-C₂₀链烯基、线性或支化C₂-C₂₀炔基、芳基、芳基烷基、烷基芳基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔基和炔基芳基，R⁴选自氢原子、线性或支化C₁-C₂₀烷基、线性或支化C₂-C₂₀链烯基、线性或支化C₂-C₂₀炔基、芳基、芳基烷基、烷基芳基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔基、炔基芳基和基团-CHR⁶-PO₃^2-，R⁵选自氢原子、线性或支化C₁-C₂₀烷基、线性或支化C₂-C₂₀链烯基、线性或支化C₂-C₂₀炔基、芳基、芳基烷基、烷基芳基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔基、炔基芳基和基团-CHR⁶-PO₃^2-；Z表示-(CR⁶R⁷)_x-或亚芳基、或其两个或多个的组合，R⁶和R⁷独立地选自氢原子、线性或支化C₁-C₆烷基、线性或支化C₂-C₆链烯基、线性或支化C₂-C₆炔基、芳基、芳基烷基、烷基芳基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔基和炔基芳基，n是平均值且数值为1-200和x是整数1-100，M表示电荷平衡所需要的抗衡离子并选自单价、二价或多价阳离子，和m是电荷平衡所需要的阳离子数目；和(d)干燥。