| 发明名称 | 反射式空间光调节器的制造 | ||
| 摘要 | 一种包括微镜阵列的反射式空间光调节器的制造。在一个实施例中，微镜阵列是通过仅使用两个主要蚀刻步骤由单晶材料的衬底制造而成的。第一步蚀刻在材料的第一侧中形成空穴。第二步蚀刻形成支持柱、垂直铰链和镜板。在第一和第二步蚀刻之间，可以将衬底压焊到寻址和控制电路上。 | ||
| 申请公布号 | CN1329284C | 申请公布日期 | 2007.08.01 |
| 申请号 | CN03801744.X | 申请日期 | 2003.05.30 |
| 申请人 | 明锐有限公司 | 发明人 | 晓和·X·潘;杨晓;陈东敏 |
| 分类号 | B81B7/04(2006.01);B81B5/00(2006.01);H01P3/08(2006.01) | 主分类号 | B81B7/04(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 柳春雷 |
| 主权项 | 1.一种制造空间光调节器的方法，所述方法允许制造的特征尺寸为0.18微米以下，包括：在第一衬底的第一侧上生成掩模；在第一衬底的第一侧中形成空穴；在第二衬底的第一侧上制造电极以及寻址和控制电路；将第一衬底的第一侧压焊到第二衬底的第一侧上：以及在将第一衬底的第一侧压焊到第二衬底的第一侧上之后，在第一衬底的第二侧上形成尺寸在十微米量级或更小的铰链、连接器和镜板。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||