发明名称 METHOD FOR FORMING UNDERLYING INSULATION FILM AND APPARATUS FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号 KR100744590(B1) 申请公布日期 2007.08.01
申请号 KR20047011711 申请日期 2003.03.31
申请人 发明人
分类号 H01L21/316;H01L21/02;H01L21/205;H01L21/28;H01L29/51 主分类号 H01L21/316
代理机构 代理人
主权项
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