发明名称 | 用于涂覆光致抗蚀剂材料的装置 | ||
摘要 | 本发明公开了一种将光致抗蚀剂材料提供在衬底上的装置,其包括装有至少一个喷嘴的盖子。溶剂供应口将溶剂输入装置中。第一溶剂收集器设置在喷嘴的下面,且连接到溶剂供应口以容纳从溶剂供应口输入的给定量的溶剂。第一溶剂收集器构造成防止喷嘴上的光致抗蚀剂残留物转变为粉末。第一溶剂收集器设置在第一溶剂收集器的下面以接收来自第一溶剂收集器的溶剂。溶剂通路设置在溶剂收集器与溶剂容器之间,以将来自第一溶剂收集器的溶剂导引至第二溶剂收集器。 | ||
申请公布号 | CN101008785A | 申请公布日期 | 2007.08.01 |
申请号 | CN200610075304.X | 申请日期 | 2006.04.12 |
申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 郑宪录;金熙星 |
分类号 | G03F7/16(2006.01) | 主分类号 | G03F7/16(2006.01) |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
主权项 | 1.一种将光致抗蚀剂材料涂覆在衬底上的装置,所述装置包括:具有一个以上装入喷嘴的喷嘴支架的盖子;设置在所述盖子下面以引导溶剂至溶剂排出构件的溶剂管道;供应溶剂到所述溶剂管道中的溶剂供应口;设置在所述喷嘴下面并构造成收集由溶剂供应口供应的溶剂和防止粉末形成在盖子或喷嘴或两者之上的第一溶剂收集器;以及连接到所述溶剂管道以收集从所述溶剂管道接收的溶剂的第二溶剂收集器,其中所述溶剂供应口设置为相比所述第二溶剂收集器更靠近所述第一溶剂收集器。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |