| 发明名称 | 防反射膜形成用组合物及使用其的配线形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种防反射膜形成用材料，其能加大抗蚀图案和防反射膜的蚀刻率之差。该防反射膜形成用组合物包含(A)含有光吸收化合物基团的硅氧烷聚合物。 | ||
| 申请公布号 | CN101010635A | 申请公布日期 | 2007.08.01 |
| 申请号 | CN200580029662.0 | 申请日期 | 2005.08.31 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 田中健;坂本好谦;高滨昌 |
| 分类号 | G03F7/11(2006.01);G03F7/42(2006.01);H01L21/027(2006.01);C08L83/04(2006.01) | 主分类号 | G03F7/11(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1、一种防反射膜形成用组合物，其中，包含(A)含有光吸收化合物基团的硅氧烷聚合物。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||