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发明名称 Method of depositing on surfaces of dielectric materials a layer containing siliceous compounds
摘要
申请公布号 PL194799(B1) 申请公布日期 2007.07.31
申请号 PL20010347771 申请日期 2001.05.29
申请人 INSTYTUT CHEMII PRZEMYSLOWEJ IM.PROF.IGNACEGO MOSCICKIEGO;INSTYTUT FIZYKI PLAZMY I LASEROWEJ MIKROSYNTEZY 发明人 ULEJCZYK BOGDAN;OPALINSKA TERESA;SCHMIDT-SZALOWSKI KRZYSZTOF;POLACZEK JERZY;KARPINSKI LESLAW;PAWLOWSKI SLAWOMIR
分类号 C08J7/04;C23C16/50;C23C22/00 主分类号 C08J7/04
代理机构 代理人
主权项
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