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发明名称
METHOD AND APPARATUS FOR TREATING L0W K DIELECTRIC LAYERS TO REDUCE DIFFUSION
摘要
申请公布号
KR100743775(B1)
申请公布日期
2007.07.30
申请号
KR20010042623
申请日期
2001.07.14
申请人
发明人
分类号
H01L21/205;C23C16/32;C23C16/56;H01L21/3105;H01L21/314;H01L21/318;H01L21/768;H01L23/522
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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