| 发明名称 |
Materialmischung, Sputtertarget, Verfahren zu seiner Herstellung sowie Verwendung der Materialmischung |
| 摘要 |
A material mixture is produced having a cobalt-based alloy as the predominant component and an additional component of at least TiO<SUB>x</SUB>. The material mixture may be formed into a sputter target by hot pressing. |
| 申请公布号 |
DE102005049328(B4) |
申请公布日期 |
2007.07.26 |
| 申请号 |
DE20051049328 |
申请日期 |
2005.10.12 |
| 申请人 |
W.C. HERAEUS GMBH |
发明人 |
SCHULTHEIS, MARKUS;WEIGERT, MARTIN |
| 分类号 |
C23C14/34;B22F3/15;C22C19/07 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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