| 发明名称 |
Verfahren zur Herstellung eines CMOS-Bildsensors |
| 摘要 |
Ein Verfahren zur Herstellung eines CMOS-Bildsensors, mit dem der Abstand zwischen einer Mikrolinse und einer Fotodiode verringert werden kann, vereinfacht den Herstellungsprozess des CMPS-Bildsensors.
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| 申请公布号 |
DE102006061029(A1) |
申请公布日期 |
2007.07.26 |
| 申请号 |
DE200610061029 |
申请日期 |
2006.12.22 |
| 申请人 |
DONGBU ELECTRONICS CO. LTD. |
发明人 |
PARK, IN SEONG |
| 分类号 |
H01L31/18;H01L27/14;H01L27/146;H01L31/119;H04N5/335;H04N5/359;H04N5/369;H04N5/374 |
主分类号 |
H01L31/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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