发明名称 |
多晶硅层以及薄膜晶体管的制造方法 |
摘要 |
一种多晶硅层的制造方法,其先提供一基板,此基板具有正面与背面。接着,依序形成缓冲层、非晶硅层与顶盖层于基板的正面上。再来,图形化顶盖层而形成一图形化顶盖层,其暴露出部分非晶硅层,其中所暴露出的部分非晶硅层的区域是一结晶开始区域。继之,形成金属催化剂层于图形化顶盖层上,且金属催化剂层与结晶开始区域中的非晶硅层接触。之后,对基板的背面进行激光加热制程,使非晶硅层自结晶开始区域结晶并转变成多晶硅层。此多晶硅层的制造方法可解决加热时间过长的问题。 |
申请公布号 |
CN101005016A |
申请公布日期 |
2007.07.25 |
申请号 |
CN200610001055.X |
申请日期 |
2006.01.16 |
申请人 |
中华映管股份有限公司 |
发明人 |
杨芸佩;邓德华;施智仁;吕佳谦 |
分类号 |
H01L21/20(2006.01);H01L21/268(2006.01);H01L21/336(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/20(2006.01) |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
寿宁;张华辉 |
主权项 |
1.一种多晶硅层的制造方法,包括:提供一基板,该基板具有一正面与一背面;依序形成一缓冲层、一非晶硅层与一顶盖层于该基板的该正面上;图形化该顶盖层以形成一图形化顶盖层,并暴露出部分该非晶硅层,其中所暴露出的部分该非晶硅层的区域是一结晶开始区域;形成一金属催化剂层于该图形化顶盖层上,且该金属催化剂层与该结晶开始区域中的该非晶硅层接触;以及对该基板的该背面进行一激光加热制程,使该非晶硅层自该结晶开始区域结晶并转变成一多晶硅层。 |
地址 |
中国台湾 |