| 发明名称 | 用于平版印版前体的基材 | ||
| 摘要 | 公开了用于可成像元件的基材。该基材依次包括铝或铝合金载体、硅酸盐层和中间层材料的层。中间层材料为一种共聚物，其包括(1)磷酸基团和/或磷酸酯基团和(2)酸基团和/或包括乙二醇或聚乙二醇侧链的基团。包括位于中间层材料之上的可成像层的可成像元件可以用作平版印版前体。 | ||
| 申请公布号 | CN101005946A | 申请公布日期 | 2007.07.25 |
| 申请号 | CN200580028267.0 | 申请日期 | 2005.08.17 |
| 申请人 | 伊斯曼柯达公司 | 发明人 | K·哈亚施;F·哈亚卡瓦;Y·米亚莫托;H·萨库赖 |
| 分类号 | B32B15/04(2006.01);B41C1/00(2006.01);C08F30/02(2006.01);C08F230/02(2006.01) | 主分类号 | B32B15/04(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 韦欣华;赵苏林 |
| 主权项 | 1.一种基材，依次包括载体、硅酸盐层和中间层，其中：载体包括铝或铝合金；中间层包括中间层材料；中间层材料为包括K单元和L单元的共聚物；K单元选自-[CH2C(R1)C(O)(OCH2CH(R5))mOR2]- 、-[CH2C(R3)CO2H]-及其混合物；L单元选自-[CH2C(R4)C(O)(OCH2CH(R6))nOP(O)(OH)2]-、-[CH2CH2PO(OH)2]-及其混合物；R1为氢或甲基；R2为氢或1到4个碳原子的烷基；R3为氢或甲基；R4为氢或甲基；以及R5和R6各自独立地为氢、甲基或氯甲基；m为1到约30；n为1到约15；和该共聚物包括约50wt％到90wt％的K单元和约10wt％到约50wt％的L单元。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||