发明名称 |
用于在等离子体处理系统中确定端点的方法和装置 |
摘要 |
公开了一种在等离子体处理系统中确定处理阈值的方法。该方法包括:露出基板以进行等离子体处理,等离子体处理包括处理开始部分、基本稳定状态部分、和处理结束部分。该方法还包括在基本稳定状态部分期间收集第一组数据;创建至少包括从由方差分量和残差分量组成的组中选取的统计模型分量的第一统计模型;以及收集第二组数据。该方法还包括创建包括统计模型分量的第二统计模型,其中,如果第一统计模型的统计模型分量与第二统计模型的统计模型分量完全不同,则基本上达到处理阈值。 |
申请公布号 |
CN101006550A |
申请公布日期 |
2007.07.25 |
申请号 |
CN200580027667.X |
申请日期 |
2005.06.14 |
申请人 |
朗姆研究公司 |
发明人 |
都昡昊;布赖恩·K·麦克米林 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01);G01L21/30(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01) |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
余刚;尚志峰 |
主权项 |
1.一种在等离子体处理系统中确定处理阈值的方法,包括:露出基板以进行等离子体处理,所述等离子体处理包括处理开始部分、基本稳定状态部分、以及处理结束部分;在所述基本稳定状态部分期间收集第一组数据;创建至少包括从由方差分量和残差分量组成的组中选择的统计模型分量的第一统计模型;以及收集第二组数据;创建包括所述统计模型分量的第二统计模型,其中,如果所述第一统计模型的所述统计模型分量与所述第二统计模型的所述统计模型分量基本不同,则基本达到所述处理阈值。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |