| 发明名称 | 用于形成嵌入式电阻器的刻蚀溶液 | ||
| 摘要 | 一种含有硫脲的电阻刻蚀溶液，它尤其适合于刻蚀由镍-铬合金组成的电阻材料。在(a)铜表面面积与(b)镍/铬表面面积的比值较大、并且期望精细特征刻蚀的情况下，电阻刻蚀溶液允许对镍铬合金进行快速而有效地刻蚀。 | ||
| 申请公布号 | CN1328196C | 申请公布日期 | 2007.07.25 |
| 申请号 | CN03803597.9 | 申请日期 | 2003.02.03 |
| 申请人 | 尼科原料美国公司 | 发明人 | 丹·利利;王江涛 |
| 分类号 | C03C25/68(2006.01);H01B13/00(2006.01);B44C1/22(2006.01);C03C15/00(2006.01);C23F1/00(2006.01);C25F3/00(2006.01) | 主分类号 | C03C25/68(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 夏青 |
| 主权项 | 1、一种用于由具有铜层和电阻层的电阻薄片形成嵌入式电阻器的方法，该电阻层包括具有铝和硅中至少之一的镍-铬合金，其中所述电阻薄片结合到介电层上，该方法包括：利用铜刻蚀剂，选择性地去除该铜层的若干部分，以形成迹线；以及利用由盐酸、丙三醇和硫脲组成的混合刻蚀剂，选择性地刻蚀包括镍-铬合金的该电阻层，其中所述丙三醇在5体积％到95体积％的范围内，所述硫脲在约1ppm到100克/升的范围内。 | ||
| 地址 | 美国俄亥俄 | ||