发明名称 用于具有增加可靠度之铜金属化的焊垫结构以及其制造方法
摘要 依照一个实施范例,半导体管芯中的结构包括位于互连金属层中的金属垫(226),该金属垫(226)含铜。该结构还包括在金属垫(226)上有一层间介电层(214)。该结构还包括界定于层间介电层(214)中的终端导孔(228),终端导孔(228)位于金属垫(226)上,且终端导孔(228)仅沿金属垫(226)的一侧(242a、242b、242c、242d)延伸。该结构尚包括位于层间介电层(214)上且在终端导孔(228)中的终端金属层(220)。该结构进而包括位于终端金属层(220)上的介电内衬(216),其中在介电内衬(216)中界定有焊垫开口(234),且焊垫开口(234)使终端金属层(220)的一部分(236)露出。层间介电层(214)位于终端金属层(220)之露出部分(236)及金属垫(226)之间。
申请公布号 CN101006582A 申请公布日期 2007.07.25
申请号 CN200580022719.4 申请日期 2005.04.29
申请人 斯班逊有限公司 发明人 I·康;H·木下;B·Y·洪;H·和田;S·千;C·X·陈
分类号 H01L23/485(2006.01) 主分类号 H01L23/485(2006.01)
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 程伟;王锦阳
主权项 1.一种半导体管芯中的结构,该结构包括:位于互连金属层中的金属垫(226),该金属垫(226)含铜;位于该金属垫(226)上的层间介电层(214);界定于该层间介电层(214)中的终端导孔(228),该终端导孔(228)位于该金属垫(226)上;位于该层间介电层(214)上且在该终端导孔(228)中的终端金属层(220);位于该终端金属层(220)上的介电内衬(216);界定在该介电内衬(216)中的焊垫开口(234),该焊垫开口(234)使该终端金属层(220)的一部份(236)露出;其中该层间介电层(214)位于该终端金属层(220)的该部份(236)及该金属垫(226)之间。
地址 美国加利福尼亚州