发明名称 高分子薄膜与无机晶体涂层复合材料及其制备方法
摘要 本发明公开了一种高分子薄膜与无机晶体涂层复合材料的制备方法,其特征在于其制备方法如下:1)将高分子薄膜浸入含2%~6%的丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸或丙烯酸的水溶液或丙酮溶液中,用钴源辐照,辐照剂量为8~22KGy,剂量率为0.14~0.38Gy/s,2)将按步骤1)得到的接枝高分子薄膜浸入含0.2wt‰~0.4wt‰的聚丙烯酸、聚乙二醇或聚谷氨酸的无机过饱和溶液中,在8~15℃条件下静置6~10天,即得本复合材料。本发明也公开了由此方法制得的复合材料。本发明具有方法简单、污染小、对基材品种选择限制性小等优点。
申请公布号 CN1328306C 申请公布日期 2007.07.25
申请号 CN200410025135.X 申请日期 2004.06.11
申请人 中国科学院上海应用物理研究所 发明人 侯铮迟;张凤英;谢雷东;虞鸣;李晶
分类号 C08J7/06(2006.01) 主分类号 C08J7/06(2006.01)
代理机构 上海智信专利代理有限公司 代理人 薛琦
主权项 1、一种高分子薄膜与无机晶体涂层复合材料的制备方法,其特征在于其制备方法如下:1)将高分子薄膜浸入含2%~6%的丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸或丙烯酸的水溶液或丙酮溶液中,并用钴源辐照,辐照剂量为8~22KGy,剂量率为0.14~0.38Gy/s;2)将按步骤1)得到的接枝高分子薄膜浸入含0.2wt‰~0.4wt‰的聚丙烯酸、聚乙二醇或聚谷氨酸的无机过饱和溶液中,在8~15℃条件下静置6~10天,即得本复合材料;其中,该高分子薄膜为聚乙烯薄膜。
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