发明名称 |
覆盖键标,其形成方法及使用其测量覆盖精确度的方法 |
摘要 |
在用于测量衬底上的第一和第二层之间的覆盖精确度的覆盖键标中,可以在第一层中形成第一标记,以及可以在第二层上形成第二标记。第一标记可以包括第一图形,第一图形具有第一间距并在第一方向上延伸。第二标记可以包括在基本上与第一方向相同的方向上延伸并具有基本上等于第一间距的第二间距的第二图形。第一和第二图像可以由第一和第二标记获得。覆盖精确度可以由通过在第一和第二图像上覆盖具有第三间距的测试图像形成的第一和第二干涉条纹的位置信息产生。 |
申请公布号 |
CN101005061A |
申请公布日期 |
2007.07.25 |
申请号 |
CN200610142018.0 |
申请日期 |
2006.09.30 |
申请人 |
三星电子株式会社 |
发明人 |
柳到烈 |
分类号 |
H01L23/544(2006.01);H01L21/00(2006.01);H01L21/66(2006.01) |
主分类号 |
H01L23/544(2006.01) |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
林宇清;谢丽娜 |
主权项 |
1.一种用于测量衬底上的第一层和第二层之间的覆盖精确度的覆盖键标,该覆盖键标包括:包括第一图形的第一标记,该第一图形具有在第一层中形成的第一间距并在第一方向上延伸;以及包括在第二层上形成的第二图形的第二标记,第二标记邻近于第一标记布置,以及第二图形具有基本上等于第一间距的第二间距以及在基本上与第一方向相同的方向上延伸。 |
地址 |
韩国京畿道水原市灵通区梅滩洞416番地 |