| 发明名称 | 高浓度硅石泥浆 | ||
| 摘要 | 一种高浓度硅石泥浆，其特征在于：将硅石粉末分散于溶剂中形成的硅石浓度为50wt％以上，粘度为1000mPa·s以下，其中所述硅石粉末通过激光衍射粒度分布得到的平均粒径(DL)与通过TEM摄影得到的平均粒径(DT)之比(DL/DT)为1.3以下，平均初级粒径为0.08μm—0.8μm。优选硅石浓度为70wt％以上—80wt％以下且泥浆调制时的粘度为800mPa·s以下的高浓度硅石泥浆，该硅石泥浆使用了具有特定杂质含量的硅石粉末，该硅石粉末中钠和钾的杂质浓度均为1.0ppm以下，铝的含量为1.0ppm以下，硫、镍、铬和铁各自的含量均为0.5ppm以下。 | ||
| 申请公布号 | CN1328163C | 申请公布日期 | 2007.07.25 |
| 申请号 | CN200380103441.4 | 申请日期 | 2003.11.21 |
| 申请人 | 日本艾罗西尔股份有限公司 | 发明人 | 森井俊夫;B·保罗 |
| 分类号 | C01B33/141(2006.01);C09K3/14(2006.01) | 主分类号 | C01B33/141(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 庞立志 |
| 主权项 | 1.一种高浓度硅石泥浆，其特征在于：将硅石粉末分散于溶剂中形成的硅石浓度为50wt％以上，粘度为1000mPa·s以下，其中所述硅石粉末的通过激光衍射粒度分布得到的平均粒径DL与通过TEM摄影得到的平均粒径DT之比DL/DT为1.3以下，平均初级粒径为0.08μm-0.8μm。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||