| 发明名称 | 用于对物体进行涂层的装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于对物体进行涂层的装置。本装置配备具有下列特征：具有一个唯一的微波源；具有两个或多个涂层室；所有涂层室连接在所述唯一的微波源上；设有一个阻抗结构或一个波导管结构用于将产生等离子体的微波能量分配到各涂层室中。本装置还包括一个H形的波导管或同轴导体结构，该导体结构包括一个短臂(3)以及两个侧腿(4，4′)并且连接在所述两个或多个处理室(10，10′)之前；所述短臂(3)通过一个输入导体(2)连接到所述唯一的微波源；以及，每个侧腿(4，4′)具有一个背离相关的处理室(10，10′)的第一区段(4.1，4.1′)以及一个面朝所述两个或多个处理室(10，10′)的第二区段(4.2，4.2′)。 | ||
| 申请公布号 | CN1328751C | 申请公布日期 | 2007.07.25 |
| 申请号 | CN02815423.1 | 申请日期 | 2002.08.07 |
| 申请人 | 肖特股份公司 | 发明人 | 斯特凡·贝勒;拉斯·贝维格;托马斯·屈佩尔;沃尔弗兰·马林;克里斯托弗·米勒;马滕·瓦尔特 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01);C23C16/50(2006.01);C23C16/517(2006.01) | 主分类号 | H01J37/32(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 张兆东 |
| 主权项 | 1.一种用于物体进行涂层的装置：具有一个唯一的微波源；具有两个或多个涂层室(10，10′)；所有涂层室(10，10′)连接在所述唯一的微波源上；有一个阻抗结构或一个波导管结构，用于将产生等离子体的微波能量分配到各涂层室(10，10′)中；还包括一个H形的波导管或同轴导体结构，该导体结构包括一个短臂(3)以及两个侧腿(4，4′)并且连接在所述两个或多个处理室(10，10′)之前；所述短臂(3)通过一个输入导体(2)连接到所述唯一的微波源；以及，每个侧腿(4，4′)具有一个背离相关的处理室(10，10′)的第一区段(4.1，4.1′)以及一个面朝所述两个或多个处理室(10，10′)的第二区段(4.2，4.2′)。 | ||
| 地址 | 德国美因茨 | ||