发明名称 |
半导体封装件及其制备方法 |
摘要 |
一种半导体封装件,包括具有含至少一个集成电路的活性表面的半导体晶片,其中每一集成电路具有多个结合点。至少一个固化的硅氧烷元件覆盖至少一部分该活性表面。每一结合点中的至少一部分没有被硅氧烷元件覆盖。该硅氧烷元件在-40至150℃下的线性热膨胀系数为60—280μm/m℃,和在25℃下的模量为1—300MPa,和通过本发明的方法制备该硅氧烷元件。 |
申请公布号 |
CN1328770C |
申请公布日期 |
2007.07.25 |
申请号 |
CN03815566.4 |
申请日期 |
2003.03.19 |
申请人 |
陶氏康宁公司 |
发明人 |
S·丹特;L·拉尔森;R·尼尔森;D·索里兹 |
分类号 |
H01L21/60(2006.01);H01L23/485(2006.01);H01L21/312(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/60(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
刘明海 |
主权项 |
1.一种半导体封装件,它包括:具有活性表面的半导体晶片,所述活性表面包括至少一个集成电路,其中每一集成电路具有多个结合点;和覆盖至少一部分活性表面的至少一种固化的硅氧烷元件,其中每一结合点的至少一部分没有被所述硅氧烷元件覆盖,该硅氧烷元件在-40至150℃下的线性热膨胀系数为60-280μm/m℃,和在25℃下的模量为1-300MPa,和通过包括下述步骤的方法制备该硅氧烷元件:(i)在活性表面上印刷硅氧烷组合物,形成硅氧烷沉积物,其中该硅氧烷组合物包含:(A)每分子含有平均至少两个与硅键合的链烯基的有机聚硅氧烷,(B)浓度足以固化该组合物的有机氢化硅氧烷,所述有机氢化硅氧烷每分子含有平均至少两个与硅键合的氢原子,(C)有效量表面积小于25m2/g的无机填料,(D)催化量的氢化硅烷化催化剂;和(ii)加热该硅氧烷沉积物,其时间足以形成固化硅氧烷元件。 |
地址 |
美国密执安 |