Method for Forming Gate of Semiconductor Device by Polymer,申请号KR20050134898-传众专利搜索

发明名称	Method for Forming Gate of Semiconductor Device by Polymer
摘要
申请公布号	KR100741909(B1)	申请公布日期	2007.07.24
申请号	KR20050134898	申请日期	2005.12.30
申请人		发明人
分类号	H01L29/78;H01L21/027	主分类号	H01L29/78
代理机构		代理人
主权项
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