发明名称 吸附力之侦测装置
摘要 本创作系一种吸附力之侦测装置,包含一侧系具有容置区之壳体,该容置区之一面上系设有一视窗部;一设于壳体中之吸附机构;以及一设于容置区中之侦测机构,该侦测机构至少包含有一结合座、一活动设置于结合座中之顶掣单元、一套设于顶掣单元上之显示单元、及二端分别连接结合座与显示单元之弹性元件,而该顶掣单元之一端系外露于结合座,且该显示单元之一面系具有与容置区所设视窗部对应之二辨识区。藉此,可使于吸附机构设于墙面上时,利用侦测单元随时侦测吸附机构之吸附情形,以防止使用时产生脱落。
申请公布号 TWM315785 申请公布日期 2007.07.21
申请号 TW096202075 申请日期 2007.02.02
申请人 钱立生;何建昌 HO, CHIEN CHANG 台北县泰山乡枫江路25巷1弄8号5楼 发明人 钱立生;何建昌
分类号 F16B47/00(2006.01) 主分类号 F16B47/00(2006.01)
代理机构 代理人 罗行 台北市信义区东兴路37号9楼;赖安国 台北市信义区东兴路37号9楼
主权项 1.一种吸附力之侦测装置,其包括有: 一壳体,其一侧系具有一容置区,且该容置区之一 面上系设有一视窗部; 一吸附机构,系设置于上述壳体中;以及 一侦测机构,系设置于上述壳体之容置区中,该侦 测机构至少包含有一结合座、一活动设置于结合 座中之顶掣单元、一套设于顶掣单元上之显示单 元、及二端分别连接结合座与显示单元之弹性元 件,而该顶掣单元之一端系外露于结合座,且该显 示单元之一面系具有与容置区所设视窗部对应之 二辨识区。 2.依申请专利范围第1项所述之吸附力之侦测装置, 其中,该壳体系由一侧具有缺口之底座、及一中央 处设有穿孔之上盖所构成,而该容置区系设于底座 一侧,且该容置区之二侧系分别具有一固定孔。 3.依申请专利范围第1项所述之吸附力之侦测装置, 其中,该吸附机构至少包含有一设于壳体一端面之 吸盘、一设于吸盘与壳体间之弹性元件、一活动 设于壳体另一端面且一端具有套筒之拨杆、及一 设于套筒中且与吸盘连接之塞体。 4.依申请专利范围第3项所述之吸附力之侦测装置, 其中,该套筒中之内侧壁系环有导引部,该导引部 系由二相对应之平面、及设于各平面间之斜面所 构成,而该塞体之外侧壁系具有与该导引部对应之 滑块。 5.依申请专利范围第3项所述之吸附力之侦测装置, 其中,该塞体配合一固定元件与吸盘连接。 6.依申请专利范围第1项所述之吸附力之侦测装置, 其中,该结合座上系具有一凹槽,且该结合座之底 部系具有一与凹槽连通之穿孔,并于该结合座之二 侧系分别具有一扣接部。 7.依申请专利范围第1项所述之吸附力之侦测装置, 其中,该顶掣单元系由二侧具有凹弧面之顶推块、 及一设于顶推块底面且外露于结合座之探针所构 成。 8.依申请专利范围第1项所述之吸附力之侦测装置, 其中,该显示单元之内侧壁系具有与顶掣单元对应 之斜凸块。 9.依申请专利范围第1项所述之吸附力之侦测装置, 其中,该显示单元之二辨识区系具有不同之辨识颜 色。 图式简单说明: 第一图,系本创作之立体分解示意图。 第二图,系本创作之立体外观示意图。 第三图,系本创作之使用状态示意图。 第四图,系本创作之吸附状态剖面示意图。 第五图,系本创作之松脱状态剖面示意图。
地址 台北市士林区中正路201巷67号5楼