| 主权项 |
1.一种包含一曝光系统及一量测系统之微影投影 设备,该曝光系统包含: -一用以提供一辐射投影射束之辐射系统; -一用以支持图案化构件之支持结构,该图案化构 件用于根据一所需图案而图案化该投影射束; -一用以固定一第一基板之基板台; -一用以将该图案化射束投影至该第一基板之一目 标部分上的投影系统,该投影系统包含用以控制至 该第一基板之该目标位置上的该投影之投影控制 构件;及 -第一控制构件,其用以移动该曝光系统之一活动 零件以使该图案化射束相对于该第一基板是可移 动的,该量测系统包含: -一光学量测装置,其用以将一量测射束投影至一 第二基板之一目标部分上并用以量测该第二基板 之该目标部分的一表面特性; -一用以固定该第二基板之第二基板台;及 -第二控制构件,其用以移动该量测系统之一活动 零件以使该量测射束相对于该第二基板是可移动 的, 其特征在于: 该设备进一步包含: -修正确定构件,其用以确定一修正讯号以至少部 分修正该曝光系统及该量测系统其中之一的活动 零件之一位置的一误差,该误差由该曝光系统及该 量测系统其中之另一个的活动零件之一移动引起, 及 -馈入构件,其用以将该修正讯号馈入该第一或第 二控制构件中以至少部分修正该曝光系统及该量 测系统的该其中之一的该位置。 2.如请求项1之设备,其中该修正确定构件被调适成 自一或两个该等活动零件之状态确定该修正讯号 。 3.如请求项1或2之设备,其中该修正确定构件被调 适成自该曝光系统及该量测系统其中之该另一个 之活动零件的资讯,较佳为一加速度,及该量测系 统之活动零件与该曝光系统之活动零件之间的一 距离来计算该修正讯号。 4.如请求项3之设备,其中该资讯包含该加速度,该 加速度藉由一包含于该第一或第二控制构件中之 加速度侦测器而提供且其中该距离自该曝光系统 及该量测系统之该等活动零件的个别位置而计算 出,该等个别位置藉由包含于该曝光系统及该量测 系统中之个别位置侦测器而提供。 5.如请求项3之设备,其中一x轴及一y轴定义于该曝 光系统及该量测系统之该等活动零件为可移动的 一平面中,该修正确定构件被调适成自该资讯之一 x轴组成部分来确定一x修正讯号以修正沿该x轴的 该曝光系统及该量测系统的该其中之一的活动零 件之该位置的一误差,且被调适成自该资讯之一y 轴组成部分来确定一y修正讯号以修正沿该y轴的 该曝光系统及该量测系统的该其中之一的活动零 件之该位置的一误差。 6.如请求项5之设备,其中该控制构件被调适成使用 下列公式计算该修正讯号: 其中Fx,y为分别在x及y方向之该修正讯号,C为一常 数,Accx,y为分别在x及y方向之该加速度,且Dxy为该曝 光系统及该量测系统之该等活动零件之间的该距 离。 7.如请求项5之设备,其中该修正确定构件被调适成 自该资讯之一y轴组成部分来确定一x至y修正讯号 以修正沿该x轴的该曝光系统及该量测系统的该其 中之一的活动零件之该位置的一误差,且调适成自 该资讯之一x轴组成部分来确定一y至x修正讯号以 修正沿该y轴的该曝光系统及该量测系统的该其中 之一的活动零件之该位置的一误差。 8.如请求项7之设备,其中该控制构件被调适成使用 下列公式计算该x至y或y至x修正讯号: 其中Fx to y,y to x分别为该x至y及该y至x修正讯号,C 为一常数,Accx,y为分别在x及y方向之该加速度,Dx为x 方向之该曝光系统及该量测系统之该等活动零件 之间的该距离,且Dy为y方向之该曝光系统及该量测 系统之该等活动零件之间的该距离。 9.如请求项1或2之设备,其中该馈入构件包含一用 以延迟该或每一修正讯号之延迟器。 10.如请求项1或2之设备,其中该馈入构件被调适成 在一封闭回路反馈控制回路中之一调整器的一输 出处将该或每一修正讯号加至一控制讯号。 11.一种装置制造方法,其包含以下步骤: -提供一至少部分覆盖有一层辐射敏感性材料之第 一基板; -提供一使用一辐射系统之辐射投影射束; -使用图案化构件以在该投影射束截面内赋予其一 图案;且 -将该图案化辐射射束投影至该层辐射敏感材料之 一目标部分上, -相对于该第一基板移动该图案化射束; -提供一第二基板; -将一量测射束投影至该第二基板之一目标部分上 并量测该第二基板之该目标部分的一表面特性; -相对于该第二基板移动该量测射束; 其特征在于下列步骤: -确定一修正讯号以至少部分修正该图案化射束及 该量测射束其中之一相对于该个别的该第一及该 第二基板其中之一的一位置的一误差,该误差由一 用以相对于该第一及该第二基板其中之另一个而 移动该图案化射束及该量测射束其中之另一个的 一装置之一移动引起;且 -藉由该修正讯号来修正该图案化射束及该量测射 束的该其中之一相对于该个别的第一或第二基板 之该位置。 图式简单说明: 图1示意性地描绘根据本发明之一实施例的微影投 影设备; 图2示意性地描绘曝光系统及量测系统之活动零件 的俯视图; 图3示意性地描绘用于控制根据本发明之设备的一 个活动零件之位置的封闭回路控制回路;及 图4展示根据本发明之方法的流程图。 |
