| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包含: 一辐射系统,其经构造并配置以提供一辐射投影光 束; 一支撑结构,其经构造并配置以支撑一反射式图案 化元件,该图案化元件包括一图案表面且经构造并 配置以依据所需之一图案来图案化该投影光束; 一基板台,其用以固持一基板;及 一投影系统,其经构造并配置以将该图案化光束投 影到该基板之一目标部分上,其中该支撑结构与该 基板台系可相对于彼此朝一第一方向移动,且于该 支撑结构与该基板台相对于彼此移动时,该图案表 面在垂直于该第一方向之一第二方向上位置之变 化系藉由调整该图案化元件在该第一方向上之位 置、调整该基板在该第一方向上之位置、绕平行 于该第二方向之一轴旋转该基板及绕平行于该第 二方向之该轴旋转该图案化元件之至少一者来进 行修正。 2.如请求项1之装置,其进一步包含经构造并配置以 决定该图案表面在该第二方向之该位置之该变化 之一干涉仪系统。 3.如请求项2之装置,其中该干涉仪系统包括两个决 定该图案表面相对于该投影系统之位置之干涉仪 。 4.如请求项1之装置,其中该图案化元件与该基板之 该等位置系相对于彼此朝该第一方向调整一数量 Y=tanZ,其中Z系该图案表面在该第二方 向上之该位置变化且系该投影光束在该图案化 元件上的一入射角。 5.如请求项4之装置,其中相对于彼此调整该图案化 元件与该基板之该等位置包括在该图案化元件与 该基板相对于彼此移动期间调整该图案化元件与 该基板之至少一者之一速率。 6.如请求项1之装置,其中绕平行于该第二方向之该 轴旋转该基板包括旋转该基板一数量zw=+/-tan (Z2-Z1)/d,其中系该投影光束在该图案化 元件上的入射角,Z1系该图案表面在该第二方向 上之位置之一第一测量变化,Z2系该图案表面在 该第二方向上之位置之一第二测量变化,且d系Z1 与Z2之两测量位置之间在垂直于该等第一与第 二方向之一第三方向上之距离。 7.一种微影投影方法,其将包括一图案表面之一反 射式图案化元件上所形成之一图案传送至一以辐 射敏感材料涂布之一基板上,包含: 在朝一第一方向同步地移动该图案化元件、该基 板及该镜时藉由透过一投影系统以一预定角度来 投影入射于该图案化元件上之一辐射光束; 决定该图案表面在垂直于该第一方向之一第二方 向上的位置变化;及 于该图案化元件、该基板及该镜之移动时,调整该 图案化元件在该第一方向上之一位置、调整该基 板在该第一方向上之一位置、调整该镜在该第一 方向上之位置与绕平行于该第二方向之该一轴旋 转该基板之至少一者以修正该图案自该焦平面之 该等位置变化。 8.如请求项7之方法,其中决定该图案表面之该位置 之该等变化包括决定该图案化元件相对于该投影 系统之位置。 9.如请求项7之方法,其中在该第一方向上相对于彼 此调整该图案化元件、该基板与该镜之该等位置 包括调整该等相对位置一数量Y=Ztan,其中 Z系该图案自该焦平面之一变化数量且系该投 影光束在该图案化元件上的入射角。 10.如请求项9之方法,其中相对于彼此调整该图案 化元件、该基板与该镜之该等位置包括在该图案 化元件、该基板与该镜相对于彼此移动期间调整 该图案化元件、该晶圆与该镜之至少一者之一速 率。 11.如请求项7之方法,其中绕该轴旋转该基板包括 旋转该基板一数量z=+/-tan(Z2-Z1)/d,其 中系该投影光束在该图案化元件上的入射角, Z1系该图案表面在该第二方向上之一第一测量变 化,Z2系该图案表面在该第二方向上之一第二测 量变化,且d系两位移测量元件之间在垂直于该等 第一与第二方向之一第三方向上之距离。 12.一种元件制造方法,其包含: 提供一基板,其系至少部分由一层辐射敏感材料覆 盖; 使用一辐射系统提供一辐射投影光束; 使用一图案化元件以赋予该投影光束一图案化断 面; 使用包括一镜之一投影系统将该图案化辐射光束 投影到该层辐射敏感材料之一目标部分上;及 调整该图案化元件在一第一方向上之一位置、调 整该基板在该第一方向上之位置、调整该镜在该 第一方向上之位置及绕平行于与该第一方向垂直 之一第二方向之一轴旋转该基板台之至少一者。 13.一种微影投影装置,其包含: 一辐射系统,其经构造并配置以提供一辐射投影光 束; 一支撑结构,其经构造并配置以支撑一反射式图案 化元件,该图案化元件包括一图案表面且经构造并 配置以依据所需之一图案来图案化该投影光束; 一基板台,其用以固持一基板;及 一投影系统,其经构造并配置以将该图案化光束投 影到该基板之一目标部分上,该投影系统包括一镜 ,其中该支撑结构、该基板台及该镜系可相对于彼 此朝一第一方向移动且该图案表面在垂直于该第 一方向之一第二方向上之位置变化系藉由调整该 图案化元件在该第一方向上之位置、调整该基板 在该第一方向上之位置、调整该镜在六个自由度 之至少一者之位置、绕平行于该第二方向之一轴 旋转该基板及绕平行于该第二方向之该轴旋转该 图案化元件之至少一者而得以修正。 图式简单说明: 图1系一微影投影装置之示意性说明; 图2系因遮罩不平坦引起之一影像图案平移之示意 性说明; 图3系因遮罩沿Z(光学)轴之位移所引起之一影像图 案平移之示意性说明; 图4系图1之微影投影装置之一部分之示意性说明; 及 图5系微影投影装置之示意性说明,其包括投影系 统之详细内容。 |
