| 主权项 |
1.一种多元醇类之制造方法,其特征系使同一分子 内具有羰基及/或其保护基且具有乙烯性双键的烯 烃类与氧及醇类于该烯烃类与该醇类的莫耳比为1 /1~1/100之范围下进行反应后,取得含有缩醛及/或缩 酮化合物之反应生成物,继续将该缩醛及/或缩酮 化合物于存在对全反应容积而言为1容量%以上的 水量,且温度为20~200℃范围下进行水解、及以氢气 作为还原剂,于该氢气分压为0.001MPa以上,20~200℃的 温度范围下进行还原反应。 2.一种多元醇类之制造方法,其特征系使同一分子 内具有羰基及乙烯性双键之烯烃类,于触媒存在下 ,具有羰基的烯烃类与醇类的莫耳比为1/1~1/100之范 围,对基质而言为0.001重量比以上之酸添加量、且 反应温度为-100℃以上,200℃以下与保护剂进行反 应,保护经羰基后,该被保护羰基及具乙烯性双键 之烯烃类与氧及醇类、于该烯烃类与醇类的莫耳 比为1/1~1/100之范围下进行反应后,取得对应之缩醛 及/或缩酮化合物,继续将缩醛及/或缩酮化合物进 行对应羰基的保护基之脱保护、于存在对全反应 容积而言为1容量%以上的水量,且温度为20~200℃范 围下进行水解、及以氢气作为还原剂,于该氢气分 压为0.001MPa以上,10~200℃的温度范围下进行还原反 应者。 3.如申请专利范围第1项之多元醇类之制造方法,其 中该羰基及/或其保护基系选自醛基及其缩醛基、 酮基及其缩酮基、羧基、含内酯之酯基所成基者 。 4.如申请专利范围第1项或第3项之多元醇类之制造 方法,其中该烯烃类系选自,不饱和醛及其缩 醛、,不饱和酮及其缩酮、,不饱和羧酸 及其酯之化合物者。 5.如申请专利范围第4项之多元醇类之制造方法,其 中该烯烃类为丙烯醛及/或其缩醛者。 6.如申请专利范围第5项之多元醇类之制造方法,其 中该烯烃类为选自丙烯醛之缩醛、2-乙烯-1,3-二氧 杂环戊烷、2-乙烯-1,3-二氧杂环己烷及2-乙烯-1,3- 二氧杂环庚烷之缩醛者。 7.如申请专利范围第4项之多元醇类之制造方法,其 中该烯烃类为丙烯酸及/或其酯者。 8.如申请专利范围第1项或第2项之多元醇类之制造 方法,其中该醇类为二醇类者。 9.如申请专利范围第1项或第2项之多元醇类之制造 方法,其中进行该烯烃类与氧及醇类之反应时,使 用含有钯及更含有铜及/或铁之触媒者。 10.如申请专利范围第1项或第2项之多元醇类之制 造方法,其中进行该烯烃类与氧及醇类之反应时, 使卤素离子存在于反应系中者。 11.如申请专利范围第10项之多元醇类之制造方法, 其中作为触媒成分所使用之至少1种选自钯、铜及 铁以卤盐方式进行供给。 12.如申请专利范围第1项或第2项之多元醇类之制 造方法,其中进行该烯烃类与氧及醇类之反应时, 反应系中存在与该醇类形成双层之溶媒者。 13.如申请专利范围第12项之多元醇类之制造方法, 其中与该醇类形成双层之溶媒为选自芳香族烃、 脂肪族烃及卤化烃者。 14.如申请专利范围第1项或第2项之多元醇类之制 造方法,其中将反应该烯烃类与氧及醇类后所得之 缩醛及/或缩酮化合物进行水解及还原反应后制造 多元醇类时,该水解与还原反应于同一反应器内进 行者。 15.如申请专利范围第2项之多元醇类之制造方法, 其中该方法系于同一反应器中进行该缩醛及/或缩 酮化合物之脱保护、水解、及还原反应者。 16.如申请专利范围第14项或第15项多元醇类之制造 方法,其中该方法系于同一反应器内进行水解及还 原反应时,以担载贵金属之沸石做为触媒使用者。 17.如申请专利范围第1、2、3或15项之多元醇类之 制造方法,其中该制造之多元醇类为1,3-丙二醇者 。 |
