发明名称 镭射七彩商标铭板构造
摘要 本创作系一种镭射七彩商标铭板构造,其系包括基体,该基体设有凹凸立体图文显示区块,该凹凸立体图文显示区块设有镭射七彩膜层,且该基体表面另设有镀膜层,藉由凹凸立体图文显示区块所设镭射七彩膜层及基体表面之镀膜层,以达商标铭板具有镭射七彩图文变化及图文不易脱落之功效。
申请公布号 TWM315646 申请公布日期 2007.07.21
申请号 TW096200172 申请日期 2007.01.04
申请人 刘木生;朱龙政 苗栗县公馆乡中义村中义136号;彭达彦 台北市文山区辛亥路7段76巷19号5楼 发明人 刘木生;朱龙政;彭达彦
分类号 B32B25/00(2006.01);G09F7/02(2006.01) 主分类号 B32B25/00(2006.01)
代理机构 代理人 王国东 台中市北区文心路4段200号10楼之5
主权项 1.一种镭射七彩商标铭板构造,其系包括: 一基体,该基体设有凹凸立体图文显示区块,该凹 凸立体图文显示区块设有立体图文,该立体图文上 设有镭射七彩膜层; 一镀膜层,该镀膜层系设于基体之凹凸立体图文显 示区块上方。 2.如申请专利范围第1项所述之镭射七彩商标铭板 构造,其中,基体系为塑性材质。 3.如申请专利范围第1项所述之镭射七彩商标铭板 构造,其中,基体系以塑性材质射出成型。 4.如申请专利范围第1项所述之镭射七彩商标铭板 构造,其中,镭射七彩膜层系以射出成型一体设于 立体图文上。 5.如申请专利范围第1项所述之镭射七彩商标铭板 构造,其中,镀膜层系以表面真空电镀设于基体表 面。 6.如申请专利范围第1项所述之镭射七彩商标铭板 构造,其中,镀膜层系以表面溅镀设于基体表面。 图式简单说明: 第一图系本创作之立体状态示意图。 第二图系本创作之局部切割状态示意图。 第三图系本创作之凹凸立体图文显示区块实施例 参考图。 第四图系本创作之制作流程参考图。 第五图系本创作之习知状态参考图。 第六图系本创作之习知状态剖面参考图。
地址 苗栗县公馆乡福星村8邻福星231之1号