发明名称 埋入式电子封装结构
摘要 一种埋入式电子封装结构,包含有一第一金属板;形成有至少一贯穿开口之一第二金属板,设于第一金属板之上表面且与第一金属板构成一散热基板;至少一半导体晶片及至少一晶片式电容元件分别接置于第一金属板而收纳于第二金属板之贯穿开口中;一被动元件层,设置于第二金属板之部分上表面;以及至少一线路增层结构,设于散热基板表面并覆盖半导体晶片、晶片式电容元件与被动元件层。
申请公布号 TWI284401 申请公布日期 2007.07.21
申请号 TW094126556 申请日期 2005.08.04
申请人 全懋精密科技股份有限公司 发明人 许诗滨
分类号 H01L23/48(2006.01);H01L23/34(2006.01) 主分类号 H01L23/48(2006.01)
代理机构 代理人 许锺迪 台北县永和市福和路389号5楼
主权项 1.一种埋入式电子封装结构,包含有: 一第一金属板; 一第二金属板,设于该第一金属板之上表面,该第 二金属板系形成有至少一贯穿开口,且该第二金属 与该第一金属板系构成一散热基板; 至少一半导体晶片及至少一晶片式电容元件分别 接置于该第一金属板表面,而收纳于该第二金属板 所形成之该贯穿开口中; 一被动元件层,设置于该第二金属板之部分上表面 ;以及 至少一线路增层结构,设于该散热基板表面并覆盖 该半导体晶片、该晶片式电容元件与该被动元件 层。 2.如申请专利范围第1项之埋入式电子封装结构,其 中该半导体晶片与该晶片式电容元件另分别包含 有复数个电极垫形成于一主动面。 3.如申请专利范围第1项之埋入式电子封装结构,其 中该半导体晶片系为一主动元件,且该主动元件包 含记忆体、发光元件及积体电路晶片之其中一者 。 4.如申请专利范围第1项之埋入式电子封装结构,其 中该线路增层结构系包含有: 一第一介电层; 至少一形成于该第一介电层上之第一线路层;以及 至少一穿过该第一介电层以导接至该第一线路层 之导电盲孔,以使该线路增层结构得以透过该导电 盲孔电性连接至该晶片式电容元件、半导体晶片 及被动元件层。 5.如申请专利范围第4项之埋入式电子封装结构,另 包含有一防焊层,且该防焊层系形成于该线路增层 结构之外缘表面,并形成有复数个开孔以显露出部 分该第一线路层作为复数个电性连接垫。 6.如申请专利范围第4项之埋入式电子封装结构,其 中该线路增层结构系可电性连接该散热基板以达 成接地功能。 7.如申请专利范围第5项之埋入式电子封装结构,另 包含有至少一覆晶元件(Flip Chip, FC),设置于该线路 增层结构之外缘表面,并电性连接部分之该等电性 连接垫。 8.如申请专利范围第5项之埋入式电子封装结构,另 包含有至少一被动元件,设置于该线路增层结构之 外缘表面,并电性连接部分之该等电性连接垫。 9.如申请专利范围第1项之埋入式电子封装结构,其 中该被动元件层系为一高介电常数之介电材料层 且该介电材料层表面设置有至少一由一金属层所 构成之线路层。 10.如申请专利范围第9项之埋入式电子封装结构, 其中该金属层、该介电材料层及该第二金属板系 形成一金属-绝缘层-金属(Metal-Insulator-Metal, MIM)间 隔结构之电容。 11.如申请专利范围第1项之埋入式电子封装结构, 其中该散热基板未与该线路增层结构相接合之表 面另设置有至少一散热结构。 12.如申请专利范围第1项之埋入式电子封装结构, 其中该半导体晶片及该晶片式电容元件系可藉由 线路增层结构电性连接该散热基板以达成接地功 能。 图式简单说明: 第1图为本发明之较佳实施例中的埋入主动及被动 元件之埋入式电子封装结构剖视图。 第2图为本发明之第1图上设置覆晶元件之结构剖 视图。 第3图为本发明之第2图上设置被动元件之结构剖 视图。
地址 新竹市科学工业园区力行路6号