主权项 |
1.一种电感耦合电浆装置,其特征在于具有以下构 件: 气密地保持且在被处理基板进行电浆处理之处理 室; 在上述处理室内供给处理气体之处理气体供给系 统; 排出上述处理室内的气体,使上述处理室内成为减 压状态之排气系统; 构成上述处理室的上部壁之介电体壁; 设置在上述介电体壁上方,藉由供给高频电力在上 述处理室内形成电感电场之射频; 设置于上述处理室的上方,并藉由上述介电体壁形 成底壁,以收容上述射频之天线室; 将上述天线室分隔为复数个小室,并支持于上述天 线室的侧壁之垂直壁, 上述介电体壁系与上述复数个小室对应分割为复 数,上述介电体壁的各分割片系以上述天线室的侧 壁与上述垂直壁予以支持。 2.如申请专利范围第1项之电感耦合电浆处理装置, 其中,上述射频系具有分别收容在上述复数个小室 的复数个天线片,从一个高频电源对上述射频供给 高频电力。 3.如申请专利范围第1项之电感耦合电浆处理装置, 其中,上述射频系与上述复数个小室相对具有复数 个,且具有分别对复数个射频供给高频电力之复数 个高频电源。 4.如申请专利范围第1至3项中任一项之电感耦合电 浆处理装置,其中,上述垂直壁系以十字状分隔上 述天线室,并分割为四个小室。 图式简单说明: 第1图系本发明之一实施形态的电感耦合电浆蚀刻 装置的垂直剖面图。 第2图系第1图的电感耦合蚀刻装置之天线室室的 水平剖面图。 第3图系第1图的电感耦合蚀刻装置之垂直壁的斜 视图。 第4图系本发明之其他实施形态的电感耦合电浆蚀 刻装置的天线部分之概略斜视图。 第5图系表示天线室的垂直壁之分隔状态的其他例 之剖视图。 第6图系显示天线室的垂直壁之分隔状态又一例之 水平剖面图。 |