| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft einen Verteilerboden 1, insbesondere einen Düsenverteilerboden, zur gleichmäßigen Einleitung von, insbesondere mit Feststoffteilchen beladenem, Prozessgas, gegebenenfalls zur Bildung einer Wirbelschicht, in einen über dem Verteilerboden angeordneten Prozessraum 3, gebildet durch Reaktorwände 4 eines Reaktors zur metallurgischen, insbesondere thermischen, Behandlung von Einsatzstoffen, wobei der Verteilerboden eine Vielzahl an Öffnungen aufweist. Durch eine wandnahe Anordnung von Öffnungen im Verteilerboden können Anlagerungen an Reaktorwänden vermieden werden. Spezielle Anordnungen betreffen Düsen und Führungsrohre.</p> |
| 申请人 |
SIEMENS VAI METALS TECHNOLOGIES GMBH & CO;POSCO;HAUZENBERGER, FRANZ;ZEHETBAUER, KARL;LEE, JUN HYUK;SHIN, MYOUNG KYUN;NAMKUNG, WON;CHO, MINYOUNG;JEONG, SUN-KWANG;CHOI, NAG JOON;KIN, HANG GOO |
发明人 |
HAUZENBERGER, FRANZ;ZEHETBAUER, KARL;LEE, JUN HYUK;SHIN, MYOUNG KYUN;NAMKUNG, WON;CHO, MINYOUNG;JEONG, SUN-KWANG;CHOI, NAG JOON;KIN, HANG GOO |
