荷电粒子束制图方法及荷电粒子束制图装置

摘要

本发明之荷电粒子束制图方法之特征为：照射荷电粒子束之射击(shot)，使用配置于前述荷电粒子束之光路上之复数偏向器，使前述荷电粒子束偏向而于试料绘制图案；复数偏向器之任一者系对与同时期其他偏向器所偏向控制之射击不同射击之荷电粒子束进行偏向控制。