发明名称 |
制造高分子量有机聚矽氧烷之方法、包含该高分子量有机聚矽氧烷之组成物、以及用其固化产物密封之光学半导体装置 |
摘要 |
所提供的是一种制造聚苯乙烯当量平均分子量至少5x104之高分子量有机聚矽氧烷之方法,该方法包括下列步骤:经由使具有可水解基团的矽烷化合物经受第一水解和缩合以制造有机聚矽氧烷,然后然后使该有机聚矽氧烷经受另外的第二水解和缩合。该高分子量有机聚矽氧烷很稳定,可抵抗胶凝,且即使在形成厚膜时也可抵抗破裂。包含该高分子量有机聚矽氧烷和缩合触媒的树脂组成物可用来密封光学元件及用来制造光学半导体装置。 |
申请公布号 |
TW200726791 |
申请公布日期 |
2007.07.16 |
申请号 |
TW095136628 |
申请日期 |
2006.10.03 |
申请人 |
信越化学工业股份有限公司 |
发明人 |
清水久司;原利夫;柏木努 |
分类号 |
C08G77/06(2006.01);C08L83/04(2006.01);H01L23/29(2006.01);H01L33/00(2006.01) |
主分类号 |
C08G77/06(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒;阎启泰 |
主权项 |
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地址 |
日本 |