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经营范围
发明名称
半导体用的切割晶粒黏剂层
摘要
本揭示内容中一种半导体用的切割晶粒黏性层乃是一种包括一第一黏性层(黏在一半导体晶圆背面)、一第二黏性层(黏在该第一黏性层上)及一切割膜(黏在该第二黏性层上)之具有3-层结构的膜层,具有可确保半导体封装过程可靠性的优点,因为其可防止在切割过程中出现晶粒飞出及不易拾起晶粒等现象,并可确保晶粒与基板间在黏合过程中具有充分的黏性。
申请公布号
TW200727369
申请公布日期
2007.07.16
申请号
TW095115141
申请日期
2006.04.27
申请人
LS电线公司
发明人
姜炳彦;金载勋;徐准模;成太铉;申东天;魏京台
分类号
H01L21/52(2006.01);H01L21/78(2006.01);C09J7/02(2006.01)
主分类号
H01L21/52(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
韩国
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