发明名称 半导体装置
摘要 本发明之课题在于,于以往的半导体装置中系存在有,用以保护元件免于受到过电压的影响而设置之保护二极体的耐电压特性无法提升之问题。本发明之解决手段为一种半导体装置,于本发明之半导体装置中,系于基板(2)上的磊晶层(3)上构成有元件保护用的保护二极体(1)。于磊晶层(3)的表面上形成有萧特基阻障用金属层(14),于萧特基阻障用金属层(14)的端部(20)之下方上形成有P型扩散层(9)。此外,从P型扩散层(9)开始往阴极区域侧,系形成有漂浮状态的P型扩散层(10、11),并与施加有阳极电位之金属层(18)形成电容耦合。藉由此构造,可降低空乏层的曲率变化,而提升保护二极体1之耐电压特性。
申请公布号 TW200727363 申请公布日期 2007.07.16
申请号 TW095109142 申请日期 2006.03.17
申请人 三洋电机股份有限公司 发明人 菊地修一;大川重明;中谷清史;高桥利幸
分类号 H01L21/331(2006.01);H01L21/76(2006.01);H01L29/00(2006.01) 主分类号 H01L21/331(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本