发明名称 |
半导体装置多层结构及其制造方法,具有半导体装置多层结构之半导体装置,以及半导体装置制造方法 |
摘要 |
在一实施例中,本发明系关于一种半导体装置,其包括一半导体基板与一形成于该半导体基板上之掺杂导电层。一扩散障壁层形成于该掺杂导电层上。该扩散障壁层包括一非晶态半导体材料。在形成该扩散障壁层之后,可在其上另外执行一热处理制程。一欧姆接触层形成于该扩散障壁层之上。一金属障壁层形成于该欧姆接触层之上。一金属层形成于该金属障壁层之上。 |
申请公布号 |
TW200727495 |
申请公布日期 |
2007.07.16 |
申请号 |
TW095112085 |
申请日期 |
2006.04.04 |
申请人 |
三星电子股份有限公司 |
发明人 |
朴在花;李章熙;金大容;朴嬉淑 |
分类号 |
H01L29/788(2006.01);H01L21/8247(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/788(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文;林嘉兴 |
主权项 |
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地址 |
韩国 |