发明名称 半导体装置多层结构及其制造方法,具有半导体装置多层结构之半导体装置,以及半导体装置制造方法
摘要 在一实施例中,本发明系关于一种半导体装置,其包括一半导体基板与一形成于该半导体基板上之掺杂导电层。一扩散障壁层形成于该掺杂导电层上。该扩散障壁层包括一非晶态半导体材料。在形成该扩散障壁层之后,可在其上另外执行一热处理制程。一欧姆接触层形成于该扩散障壁层之上。一金属障壁层形成于该欧姆接触层之上。一金属层形成于该金属障壁层之上。
申请公布号 TW200727495 申请公布日期 2007.07.16
申请号 TW095112085 申请日期 2006.04.04
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 朴在花;李章熙;金大容;朴嬉淑
分类号 H01L29/788(2006.01);H01L21/8247(2006.01) 主分类号 H01L29/788(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文;林嘉兴
主权项
地址 韩国