| 发明名称 |
辐射系统及微影装置 |
| 摘要 |
本发明揭示一种用于产生一辐射光束之辐射系统。该辐射系统包括一用于产生EUV辐射之脉冲EUV源，以及一安装在该EUV源前用于选择性地通过自该EUV源发出之EUV辐射光束之一光谱范围之一光谱滤光片。该光谱滤光片系安装在一配置以与该脉冲EUV源同步移动之可移动架座上，以防止由该EUV源行移之碎片影响该光谱滤光片。因此，该光谱滤光片系大体上免于碎片之污染。 |
| 申请公布号 |
TW200727088 |
申请公布日期 |
2007.07.16 |
| 申请号 |
TW095142867 |
申请日期 |
2006.11.20 |
| 申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
马登 马瑞司 乔汉娜 威贺默思 凡 赫本;MAARTEN MARINUS JOHANNES WILHELMUS;德克 让 威尔佛德 昆德拉;强尼斯 贺伯特斯 莎菲纳 摩斯;JOSEPHINA |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);G02B5/20(2006.01);G02B26/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
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| 地址 |
荷兰 |
