光阻膜之加工方法

摘要

本发明提供能以更简单且低成本之方式实施之光阻膜之加工方法。本发明之光阻膜之加工方法，系实施至少在防反射用矽树脂膜、再于其上面依序形成光阻膜之基板的光阻膜经加工之方法，其特征为：至少使用溶剂留存前述矽树脂膜下去除前述光阻膜后，于前述矽树脂膜之上再形成光阻膜。此时，实施前述光阻膜之加工之基板，可为经于前述矽树脂膜之下，形成有机膜者。