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发明名称
用以剥离抗蚀剂之组成物
摘要
本发明涉及一种用以剥离抗蚀剂之组成物,尤其涉及一种包含选自具有双氧键的环状化合物、乙二醇类化合物及碳酸类化合物中的化合物之用以剥离抗蚀剂之组成物。本发明的用以剥离抗蚀剂之组成物可进一步包含内酯类化合物、胺或有机酸、氧化剂或其混合物。本发明的用以剥离抗蚀剂之组成物,可用于去除在电路或显示元件金属布线的图形化中所使用的抗蚀剂,其对图形化金属膜上所残留的抗蚀剂具有优秀的剥离效果,并在高温下,其因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度极小,且能将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。
申请公布号
TW200727092
申请公布日期
2007.07.16
申请号
TW096100978
申请日期
2007.01.10
申请人
东进世美肯股份有限公司
发明人
尹锡壹;金圣培;郑宗铉;许舜范;金柄郁
分类号
G03F7/42(2006.01);C11D7/26(2006.01);C11D7/50(2006.01)
主分类号
G03F7/42(2006.01)
代理机构
代理人
刘緖伦
主权项
地址
韩国
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