GAS SEPARATION MEMBRANES CONTAINING A MICROPOROUS SILICA LAYER BASED ON SILICA DOPED WITH A TRIVALENT ELEMENT

摘要

La présente invention a pour objet un procédé de préparation d'une membrane de séparation de gaz, comprenant le dépôt d'un film à partir d'un sol de silice sur un support poreux, puis le traitement thermique du film ainsi déposé, où le sol de silice déposé est préparé en hydrolysant un alcoxyde de silicium e n présence d'une quantité dopante d'un précurseur d'un oxyde d'un élément trivalent, notamment le bore ou l'aluminium. L'invention concerne également les membranes telles qu'obtenues selon ce procédé, ainsi que leurs utilisations, notamment pour la séparation d'hélium ou d'hydrogène à température élevée, et en particulier pour l'élimination d'impuretés dans de s flux d'hélium.