| 主权项 |
1.一种电浆显示面板,系于多数对之显示电极在列 方向并设之第一面板,使多数位址电极于行方向并 设之第二面板对向,对应于一对的显示电极与一条 位址电极之交叉部分而使多数晶胞矩阵状配置,其 特征在于: 平均晶胞面积、平均晶胞开口率、平均可见光透 过率之至少任何値,在面板中央领域均比面板周边 领域大之构成。 2.如申请专利范围第1项之电浆显示面板,其中邻接 之各显示电极的间距系从面板列方向中央领域朝 向面板列方向端部而减少的构成。 3.如申请专利范围第1项之电浆显示面板,其中邻接 之位址电极的间距系从面板行方向中央领域朝向 面板行方向端部而减少的构成。 4.如申请专利范围第1项之电浆显示面板,其中邻接 之各显示电极的间距系从面板列方向中央领域朝 向面板列方向端部而减少的构成,且邻接之位址电 极的间距系从面板行方向中央领域朝向面板行方 向端部而减少的构成。 5.如申请专利范围第1项之电浆显示面板,其中邻接 之一对显示电极之间隙,设成从面板列方向中央领 域朝向面板列方向端部而减少的构成。 6.如申请专利范围第5项之电浆显示面板,其中于邻 接之一对显示电极之间隙,该间隙之値设成从该显 示电极之长边方向中央部朝向面端部而减少的构 成。 7.如申请专利范围第1项之电浆显示面板,其中前述 显示电极具有透明电极与滙流排线,于透明电极上 积层滙流排线,邻接之各滙流排线形成从面板中央 领域朝向面板列方向端部而减少的构成。 8.如申请专利范围第7项之电浆显示面板,其中于各 显示电极,滙流排线之宽幅从该电极之长边方向中 央部朝向两端部减少的构成。 9.如申请专利范围第1项之电浆显示面板,其中邻接 之各显示电极由电气性连接之多数金属线部所构 成,一对显示电极之金属线部的宽幅系从面板列方 向中央领域朝向面板列方向端部而增大的构成。 10.如申请专利范围第9项之电浆显示面板,其中于 一对显示电极,各显示电极之金属线部之合计宽幅 系从显示电极之长边方向中央部朝向两端部增大 的构成。 11.如申请专利范围第1项之电浆显示面板,其中于 邻接之显示电极间形成黑色膜,邻接之各黑色膜的 宽幅系从面板列方向中央领域朝向面板列方向端 部而增大的构成。 12.如申请专利范围第11项之电浆显示面板,其中各 黑色膜的宽幅系从该膜之长边方向中央部朝向两 端部而增大的构成。 13.如申请专利范围第1项之电浆显示面板,其中于 第一面板与第二面板之间,与各位址电极交互地并 设隔壁,前述隔壁之宽幅从面板行方向中央领域朝 向面板行方向端部而增大的构成。 14.如申请专利范围第1项之电浆显示面板,其中于 第一面板与第二面板之间,与各对的显示电极交互 地并设辅助隔壁,前述辅助隔壁之宽幅从面板列方 向中央领域朝向面板列方向端部而增大的构成。 15.如申请专利范围第1项之电浆显示面板,其中于 形成显示电极之第一面板表面形成介电体层以覆 盖前述显示电极,该介电体层系于面板中央领域之 厚度比面板周边领域之厚度厚。 16.一种曝光遮罩,系于电浆显示面板之制造步骤中 ,以光刻法于面板表面形成显示电极、隔壁及黑色 膜之至少其中任何一种者,其特征在于: 前述曝光遮罩之面板中央领域之平均开口率比面 板周边领域之平均开口率高。 17.一种介电体层薄片,系于电浆显示面板之制造步 骤中,用以被覆配设着显示电极之面板表面而形成 介电体层者,其特征在于: 对应面板中央领域之介电体层薄片之厚度比面板 周边领域之介电体层薄片的厚度厚。 18.一种电浆显示面板之制造方法,系经过于第一面 板表面形成多数显示电极之显示电极形成步骤、 及于第二面板表面形成多数隔壁之隔壁形成步骤, 其特征在于: 在前述显示电极形成步骤及隔壁形成步骤之至少 其中任何步骤,于所对应之第一或第二面板之表面 涂布感光性材料,并藉由曝光遮而进行曝光处理之 图案化处理, 于该图案化处理,藉着使对于前述感光性材料之曝 光状态部分的不同,而设定显示电极或隔壁的宽幅 。 19.如申请专利范围第18项之电浆显示面板之制造 方法,其中前述感光性材料系使用于蚀刻化处理之 光阻材料。 图式简单说明: 第1图系PDP之部分的断面立体图。 第2图表示PDP之晶胞配列的概略图。 第3图表示实施样态1之PDP晶胞配列的概略图。 第4图表示实施样态1之变化之PDP晶胞配列的概略 图。 第5图表示实施样态1之变化之PDP晶胞配列的概略 图。 第6图表示PDP之显示电极之显示电极配列的概略图 。 第7图表示实施样态2之显示电极形状的概略图。 第8图表示实施样态2之变化之显示电极形状的概 略图。 第9图表示实施样态2之变化之显示电极形状的概 略图。 第10图表示实施样态3之显示电极形状的概略图。 第11图表示实施样态3之变化之显示电极形状的概 略图。 第12图表示实施样态4之显示电极形状的概略图。 第13图表示实施样态5之显示电极间之黑色膜形状 的概略图。 第14图表示实施样态5之变化之显示电极间之黑色 膜形状的概略图。 第15图表示实施样态5之变化之显示电极间之黑色 膜形状的概略图。 第16图表示实施样态6之隔壁形状的概略图。 第17图表示实施样态6之变化之辅助隔壁形状的概 略图。 第18图(A)、(B)表示实施样态7之介电体层形状的断 面图。 第19图表示显示电极之图案用遮罩形状。 第20图表示显示电极之图案用遮罩形状。 第21图表示曝光步骤之过程顺序。 第22图系使用凹面透镜之曝光步骤的概念图。 第23图表示介电体层之制作顺序。 |
