| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包含: -一照明系统,其用于提供一辐射投影光束; -图样装置,其用于根据一所需图样制作该投影光 束之图样; -一基底桌,其用于托住一基底;及 -一偏离主轴投影系统,其用于将图样光束投射至 基底之一目标部分, 其中,另外包含一用于补偿一该偏离主轴投影系统 之远距中央误差之光学元件。 2.如申请专利范围第1项之装置,其中该图样装置包 含一用于支托一光罩之光罩桌。 3.如申请专利范围第1或2项之装置,其中照明系统 之光轴乃横向位移,而在本质上平行于投影系统之 光轴,但偏离其主轴。 4.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该光学元 件乃倾斜于照明系统之光轴,用于补偿一偏离主轴 投影系统中的远距中央误差。 5.如申请专利范围第4项之装置,其中该光学元件乃 可倾斜的,使远距中央误差补偿得以调整。 6.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该光学元 件包含一反射元件。 7.如申请专利范围第6项之装置,其中该反射元件具 有一非平面轮廓(profile)。 8.如申请专利范围第1项之装置,其中该光学元件包 含楔型传输光学元件。 9.如申请专利范围第8项之装置,其中该楔型光学元 件包含一棱镜板(prismatic plate)。 10.如申请专利范围第8项之装置,其中该楔型光学 元件包含一本质上呈轴向对称之透镜之一部分。 11.如申请专利范围第8、9或10项之装置,其中该光 学元件乃涂于一最靠近该图样装置之位置,或一在 本质上与其结合之位置。 12.一种元件制作方法,包含如下步骤: -提供一至少由一层辐射敏感材料予以部分覆盖的 基底; -提供一用于一辐射系统之辐射投影光束; -使用图样装置在其横切面提供一具有一图样的投 影光束;及 -使用一偏离主轴投影系统将该辐射图样光束投射 至辐射敏感材料层之一目标部分, 其特征在于光学元件乃用于补偿该一该偏离主轴 投影系统之远距中央误差。 13.一种用于一微影投影装置之照明系统,其用于提 供一辐射投影光束,在本质上由一偏离主轴投影系 统制作图样于或投射至一基底上,其中包含用于补 偿偏离主轴投影系统之远距中央误差之光学元件 。 图式简单说明: 图1描绘一根据本发明之一具体实施例之微影投影 装置; 图2(a)和(b)分别为描述非远距中央与远距中央之投 影透镜系统图; 图3描述关于偏离主轴之照明系统之一投影系统之 远距误差; 图4表示根据本发明内含可倾斜镜远距误差补偿装 置之一照明器与投影系统;以及 图5表示一内含楔型远距误差补偿装置之照明器与 投影系统。 |
