| 主权项 |
1.一种制造不饱和羧酸之方法,包括使烯类及烷类 之混合物在含下式之混合金属氧化物之触媒存在 下进行单次通过气相催化氧化反应: AaMmNnXxOo 其中A系选自钼及钨之任何一种元素,M系选自钒及 铈之任何一种元素,N系选自鍗及硒之任何一种元 素,及X系选自铌、钽、钛、铝、锆、铬、锰、铁 、钌、钴、铑、镍、铂、锑、铋、硼、铟、砷、 锗、锡、锂、钠、钾、铷、铯、钫、铍、镁、钙 、锶、钡、铪、铅、磷、钜、铕、Dd、镝、钬、 铒、铥、钇、鏀、金、银、钯、镓、锌、镨、铼 、铱、钕、镱、钐及铽之任何一种元素;及 其中当a=1时,m=0.01至1.0,n=0.01至1.0,x=0.01至1.0及o与其 他元素之氧化态有关。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中供应至反应系 统作为起始物气体,系一起使用蒸气与烯类及烷类 之混合物。 3.如申请专利范围第2项之方法,其中供应至反应系 统作为起始物气体,系一起使用氧及稀释气体与烯 类及烷类之混合物及蒸气,且其中起始物气体中( 烯类及烷类)之混合物:(氧):(稀释气体):(蒸气)莫耳 比为(1):(0.1至10):(0至20):(0.2至70)。 4.如申请专利范围第1项之方法,其中该混合金属氧 化物使用Cu-K测量之X-射线热射图形在下列绕射 角2展现X-射线绕射峰: 绕射角2(0.3) 22.1, 28.2, 36.2, 45.2, 50.0。 5.如申请专利范围第1项之方法,其中M为钒。 6.如申请专利范围第5项之方法,其中N为鍗。 7.如申请专利范围第6项之方法,其中X为铌。 8.如申请专利范围第1项之方法,其中烯类为丙烯及 烷类为丙烷。 9.如申请专利范围第8项之方法,其中烯类存在量为 至少0.5重量%至至多10重量%。 10.一种制造不饱和类之方法,包括使烯类及烷类 之混合物与氨在含下式之混合金属氧化物之触媒 存在下进行气相催化氧化反应: AaMmNnXxOo 其中A系选自钼及钨之任何一种元素,M系选自钒及 铈之任何一种元素,N系选自鍗、锑及硒之任何一 种元素,及X系选自铌、钽、钛、铝、锆、铬、锰 、铁、钌、钴、铑、镍、铂、锑、铋、硼、铟、 砷、锗、锡、锂、钠、钾、铷、铯、钫、铍、镁 、钙、锶、钡、铪、铅、磷、钜、铕、Dd、镝、 钬、铒、铥、钇、鏀、金、银、钯、镓、锌、镨 、铼、铱、钕、镱、钐及铽之任何一种元素;及 其中当a=1时,m=0.01至1.0,n=0.01至1.0,x=0.01至1.0及o与其 他元素之氧化态有关。 11.如申请专利范围第10项之方法,其中该混合金属 氧化物使用Cu-K测量之X-射线热射图形在下列绕 射角2展现X-射线绕射峰: 绕射角2(0.3) 22.1, 28.2, 36.2, 45.2, 50.0。 12.如申请专利范围第10项之方法,其中烯类为丙烯 及烷类为丙烷。 |
