发明名称 一种封装保护结构
摘要 本发明系提供一种封装保护结构。该封装保护结构系完全覆盖于一基底上之一电路元件,,该封装保护结构包含有一第一类钻碳膜,用来当作该封装保护结构之最下层,一缓冲层设于该第一类钻碳膜表面,以及一第二类钻碳膜,覆盖于该缓冲层及部分之该第一类碳钻膜,用来当作该封装保护结构之最上层并与该第一类钻碳膜形成一回路结构。
申请公布号 TWI283914 申请公布日期 2007.07.11
申请号 TW091116648 申请日期 2002.07.25
申请人 统宝光电股份有限公司 发明人 陈光荣
分类号 H01L23/02(2006.01);H05B41/24(2006.01) 主分类号 H01L23/02(2006.01)
代理机构 代理人 许锺迪 台北县永和市福和路389号5楼
主权项 1.一种封装保护结构,设于一基底上,该基底表面设 有有一电路元件,而该封装保护结构则系覆盖于该 电路元件及该基底上,该封装保护结构包含有: 一第一类钻碳(diamond-like carbon, DLC)膜,覆盖于该电 路元件之上表面与侧壁以及该基底表面上,用来当 作该封装保护结构之最下层; 一缓冲层(buffer layer),设于该第一类钻碳膜之上;以 及 一第二类钻碳膜,覆盖于该缓冲层以及部分之该第 一类碳钻膜上,用来当作该封装保护结构之最上层 ; 其中该第二类钻碳膜与该第一类钻碳膜系构成一 回路结构。 2.如申请专利范围第1项之封装保护结构,其中该封 装保护结构之厚度约为10至50000埃()。 3.如申请专利范围第1项之封装保护结构,其中该第 一类钻碳膜与该第二类钻碳膜的厚度均约为10至 50000埃()。 4.如申请专利范围第1项之封装保护结构,其中该第 二类钻碳膜之覆盖面积大于该缓冲层之覆盖面积 。 5.如申请专利范围第1项之封装保护结构,其中该缓 冲层系包含有溶剂型或无溶剂型之热固化材料或 UV固化材料。 6.如申请专利范围第1项之封装保护结构,其中该缓 冲层系包含有热蒸镀高分子材料。 7.如申请专利范围第1项之封装保护结构,其中该缓 冲层系包含有类钻碳膜与高分子材料所构成之材 料结构。 8.如申请专利范围第1项之封装保护结构,其中该缓 冲层系包含有无机材料与高分子材料所构成之材 料结构。 9.如申请专利范围第1项之封装保护结构,其中该第 一类钻碳膜系用来提供一导热之功能,以将该显示 单元产生之热量传导至该第二类钻碳膜,而该第二 类钻碳膜系用来提供一抗磨耗以及散热之功能。 10.如申请专利范围第1项之封装保护结构,其中该 回路结构系用来作为该电路元件的散热结构。 11.如申请专利范围第1项之封装保护结构,其中该 电路元件系为一显示单元。 12.如申请专利范围第11项之封装保护结构,其中该 显示单元系为一有机发光显示单元。 13.如申请专利范围第12项之封装保护结构,其中该 有机发光显示单元另包含有一共轭高分子( conjugated polymer)层,以及二导电层,分别位于该共轭 高分子层之上方及下方。 14.如申请专利范围第1项之封装保护结构,其中该 第一一类钻碳膜之覆盖面积大于该缓冲层之覆盖 面积。 图式简单说明: 图一为习知封装保护结构的剖面示意图。 图二为本发明之封装保护结构的剖面示意图。 图三为图二中封装保护结构的局部放大图。 图四为本发明之封装保护结构的俯视图。
地址 苗栗县竹南镇新竹科学工业园区科中路12号